特許
J-GLOBAL ID：200903084095085363

ポリマ導波路及びその製造方法

発明者：
井本 克之

井本 克之 について


出願人/特許権者：
日立電線株式会社

日立電線株式会社 について


代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-152854
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350663
出願日： 2001年05月22日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【課題】 低散乱損失で、残留歪の少なく、マイクロクラックが発生しないポリマ導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板1上に形成された下部クラッド層2、コア層3、側面クラッド層4-1、4-2、及び上部クラッド層5aがいずれも同一のフォトブリーチング材料で構成されているので、各層2、3、4-1、4-2、5aに歪が発生したり、残留したり、あるいはそれによってマイクロクラックが発生することがない。また、各層2、3、4-1、4-2、5aを形成する際に界面の濡れ性がよいので、ポリマ溶液を均一に塗布しやすくなり、界面を均一に形成することができ、低散乱損失の導波路を実現することができる。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に形成された下部クラッド層と、該下部クラッド層の上に形成され、上記下部クラッド層よりも屈折率が高い略矩形断面形状のコア層と、上記下部クラッド層上の該コア層の両側に形成され該コア層よりも屈折率の低い側面クラッド層と、上記コア層及び該側面クラッド層の上に形成され上記コア層よりも屈折率の低い上部クラッド層とを有し、上記下部クラッド層、上記コア層、上記側面クラッド層及び上記上部クラッド層が同一のフォトブリーチング材料で構成されていることを特徴とするポリマ導波路。
IPC (2件)：
G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (2件)：
G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Fターム (9件)：
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA17 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA23 ,  2H047TA31 ,  2H047TA41
引用特許：
審査官引用 (4件)
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