特許
J-GLOBAL ID：200903084153191462
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
河宮 治
, 和田 充夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-333523
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175460
出願日： 2004年11月17日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】 プラズマ処理を繰り返し実施しても、処理室内のダストの発生量が少なく、安定したプラズマ処理をその再現性を高めて行なうことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置において、誘電体窓の外部若しくは内部に形成され、かつプラズマ励起用コイル又は電極がその内部に配置されるとともに、当該内部に電気絶縁性液体が収容される液室と、上記液体の冷却手段及び加熱手段を有し、上記液室に収容された上記液体の温度を調整し、当該液体を介して上記プラズマ励起用コイル又は上記電極及び上記誘電体窓の温度を制御する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空化された処理室内に導入された反応ガスに電磁界を付与してプラズマを励起させ、上記処理室内の基板に対しプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置において、
その内部において上記基板が保持され、当該基板に対する処理が行われる上記処理室を形成する真空容器と、
上記処理室を密閉するように当該真空容器の一部をなす誘電体窓と、
上記誘電体窓を介して上記処理室と対向して配置され、高周波電力が印加されることで、当該誘電体窓を介して上記処理室内部に電磁界を付与するプラズマ励起用コイル又は電極と、
上記処理室内に上記反応ガスを供給するガス供給部と、
上記処理室内を排気して上記処理室内の圧力を略一定に保つ真空排気装置と、
上記プラズマ励起用コイル又は上記電極に上記高周波電力を印加する高周波電源と、
上記誘電体窓をその一部となして、当該誘電体窓における上記処理室側の表面とは反対側の表面を電気絶縁性液体中に浸積させるように当該液体を収容する液室をその内部に形成し、かつ、当該液室内に上記プラズマ励起用コイル又は上記電極を配置する液体収容容器とを備えるプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/3065
, C23C16/505
, H05H1/46
H01L21/302 101C
, C23C16/505
, H05H1/46 L
4K030CA04
, 4K030FA03
, 4K030FA04
, 4K030KA26
, 4K030KA30
, 4K030LA15
, 5F004BC08
, 5F004BD04
, 5F004CA09
, 5F004DA00
, 5F004DB22
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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高周波放電装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-046091
出願人：富士通株式会社
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プラズマ処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-103946
出願人：高木憲一, アネルバ株式会社
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プラズマ装置およびその運転方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-160375
出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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