表面が平滑な多孔質シリカフィルムの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木俊一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-276514
公開番号（公開出願番号）：特開2003-089514
出願日： 2001年09月12日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：

【要約】【解決手段】本発明に係る表面が平滑な多孔質シリカフィルムの製造方法は、アルコキシシラン類を界面活性剤の存在下で部分的に加水分解、脱水縮合して得られる塗布液を、湿気を有する雰囲気下において、基板に塗布することを特徴とする。【効果】本発明の多孔質シリカフィルムの製造方法によれば、光機能材料や電子機能材料に応用可能な、均一な細孔を持ち、かつフィルム表面の平滑性に優れる多孔質シリカフィルムを得ることができる。

請求項（抜粋）：

アルコキシシラン類を界面活性剤の存在下で部分的に加水分解、脱水縮合して得られる塗布液を、湿気を有する雰囲気下において、基板に塗布することを特徴とする表面が平滑な多孔質シリカフィルムの製造方法。

IPC (4件)：

C01B 33/12 , B05D 7/24 302 , C09D183/02 , C09D183/04

FI (4件)：

C01B 33/12 C , B05D 7/24 302 Y , C09D183/02 , C09D183/04

Fターム (45件)：

4D075BB24Y , 4D075BB28Z , 4D075BB56Y , 4D075BB91Y , 4D075CA48 , 4D075CB21 , 4D075DA06 , 4D075DB04 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DC21 , 4D075DC22 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EB43 , 4D075EB47 , 4D075EB56 , 4D075EC35 , 4D075EC54 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072BB15 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072JJ47 , 4G072MM01 , 4G072NN21 , 4G072RR05 , 4G072RR12 , 4G072UU11 , 4G072UU17 , 4G072UU30 , 4J038DF022 , 4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038DL071 , 4J038GA12 , 4J038JA27 , 4J038JA28 , 4J038JA57 , 4J038JB14 , 4J038JC09 , 4J038KA09 , 4J038NA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板上に形成される多孔質材料の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-087782 出願人：曽我直弘, 中西和樹, 有限会社エム・アール・シー
高pHでナノポーラス誘電体フィルムを製造するための方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-543963 出願人：アライドシグナル・インコーポレーテッド
無機多孔質膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-040816 出願人：工業技術院長, 株式会社クボタ

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