特許
J-GLOBAL ID：200903084220944390
アライメント方法及び該方法に使用される投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-109368
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306613
出願日： 1995年05月08日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 アライメントセンサをあまり複雑化することなく、且つ迅速にサイト・バイ・サイト方式でウエハ上のショット領域の位置を計測する。【構成】 レーザ光源1からのレーザビームLより音響光学素子13A,13Bを介して周波数の異なる2つのレーザビームL1,L2を生成し、これらレーザビームL1,L2をハーフプリズム29でX軸の計測用レーザビームLX1,LX2とY軸の計測用レーザビームLY1,LY2とに分割する。計測用レーザビームLX1,LX2を計測系8X、投影光学系PL、及び色収差制御板35を介して2次元の回折格子マークWMj 上に照射し、計測用レーザビームLY1,LY2を計測系8Y、及び投影光学系PL等を介して回折格子マークWMj 上に照射し、回折格子マークWMj の2次元方向の位置を同時に計測する。
請求項（抜粋）：
感光基板上に配列された複数のショット領域の内の露光対象とするショット領域に投影光学系を介してマスクパターンを露光する際の前処理工程として、前記複数のショット領域の内の計測対象とするショット領域の座標位置をそれぞれ露光位置と異なる計測位置で計測し、該計測結果に基づいて前記露光対象とするショット領域を前記露光位置に位置合わせするアライメント方法において、前記感光基板上の前記複数のショット領域にそれぞれ2次元的な位置を示す位置合わせ用マークを付設しておき、前記計測対象とするショット領域に付設された位置合わせ用マークの2次元的な座標位置を前記投影光学系を介して同時に計測し、該計測結果に基づいて前記露光対象とするショット領域を前記露光位置に位置合わせすることを特徴とするアライメント方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 522 D
