特許
J-GLOBAL ID：200903084266446343
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-302038
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133625
出願日： 1998年10月23日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】ノズルからの処理液のボタ落ちや塵埃による基板汚染を防止することのできる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Wの上下面に上部遮断部材21と下部遮断部材22をそれぞれ近接配置し、基板Wと両遮断部材21,22とを回転させながら基板Wの洗浄処理および乾燥処理を行う基板処理装置であって、上部遮断部材21の筒軸36を気体流路48a〜48dから噴出するガスによって非接触状態で支持することによって軸受部分での塵埃の発生を防止する。また、上部洗浄液ノズル42は、洗浄処理時に上部遮断部材21と基板Wとの間隙に進出して基板Wの上面に洗浄液を供給する一方、非洗浄処理時には上部遮断部材21の傍らに退避するので、上部洗浄液ノズル42から洗浄液がボタ落ちしても基板Wが汚染されない。
請求項（抜粋）：
基板の少なくとも上面に上部遮断部材を近接配置し、基板と前記上部遮断部材とを回転させて基板の洗浄処理および乾燥処理を行う基板処理装置において、前記上部遮断部材の回転軸を非接触状態で支持する非接触軸受と、前記上部遮断部材の回転中心にある開口から基板に向けて不活性ガスを噴出する不活性ガス噴出手段と、洗浄処理時には前記上部遮断部材と基板との間隙に進出して基板の上面に洗浄液を供給するとともに、非洗浄処理時には前記上部遮断部材の傍らに退避する洗浄液吐出ノズルとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 643
, H01L 21/304 651
, B08B 3/02
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 651 L
, B08B 3/02 B
3B201AA03
, 3B201AB08
, 3B201AB34
, 3B201AB42
, 3B201BB24
, 3B201BB45
, 3B201BB92
, 3B201BB93
, 3B201CB12
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 3B201CC13
, 3B201CD33
