特許
J-GLOBAL ID:200903084273314800
液晶表示基板及びその製造方法、並びに液晶表示装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
森岡 正樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-166979
公開番号(公開出願番号):特開2000-352725
出願日: 1999年06月14日
公開日(公表日): 2000年12月19日
要約:
【要約】【課題】本発明は、外光を反射して画像を表示する反射型液晶表示装置に関し、表示電極間から入射する光を確実に吸収して反射光の色調等の劣化を防止することができる液晶表示基板及びその製造方法、並びに液晶表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】シリコン基板1上に形成したFETのソース電極22上に層間絶縁膜24を形成して上面をCMP等により平坦化してから絶縁性の反射防止膜26を形成する。反射防止膜26及び層間絶縁膜24を貫通するスルーホールに接続導体30を埋め込んでソース電極22と金属層29とを接続する。同様にして金属層29上に層間絶縁膜24’を形成して平坦化してから絶縁性の反射防止膜26’を形成する。反射防止膜26’及び層間絶縁膜24’を貫通するスルーホールに接続導体30’を埋め込んで金属層29と表示電極32とを接続する。
請求項(抜粋):
スイッチング素子に接続された電極上に、前記電極がなす段差よりも表面が平坦化された第1の絶縁膜を形成する工程と、前記第1の絶縁膜上にプラズマCVD法によって絶縁性の反射防止膜を形成する工程と、前記反射防止膜および前記第1の絶縁膜を貫通し、前記電極への接続を露出するスルーホールを形成する工程と、前記反射防止膜の上層側に、入射光を反射する機能を有し、前記スルーホールの内面に接して設けられた接続導体を介して前記電極に接続される表示電極を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示基板の製造方法。
IPC (6件):
G02F 1/136 500
, G02B 1/11
, G02F 1/1333 505
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 311
, H01L 21/768
FI (6件):
G02F 1/136 500
, G02F 1/1333 505
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 311
, G02B 1/10 A
, H01L 21/90 B
Fターム (77件):
2H090HA04
, 2H090HB03X
, 2H090HB04X
, 2H090HC03
, 2H090HC11
, 2H090HC12
, 2H090HC17
, 2H090HC18
, 2H090HD06
, 2H090HD07
, 2H090KA05
, 2H090LA04
, 2H090MA04
, 2H092HA05
, 2H092JA23
, 2H092JA29
, 2H092JA38
, 2H092JA42
, 2H092JA46
, 2H092JB13
, 2H092JB56
, 2H092MA05
, 2H092MA08
, 2H092MA13
, 2H092MA17
, 2H092MA35
, 2H092MA37
, 2H092MA41
, 2H092NA03
, 2H092NA25
, 2H092NA28
, 2H092PA12
, 2H092QA07
, 2H092RA05
, 2K009AA02
, 2K009BB01
, 2K009CC02
, 5C094AA06
, 5C094AA08
, 5C094AA11
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094CA24
, 5C094DA13
, 5C094DB04
, 5C094EA04
, 5C094EA05
, 5C094EA06
, 5C094EB02
, 5C094EB04
, 5C094ED11
, 5C094ED12
, 5C094FA02
, 5C094FB15
, 5C094GB10
, 5F033HH09
, 5F033HH10
, 5F033HH18
, 5F033HH33
, 5F033HH38
, 5F033JJ19
, 5F033KK09
, 5F033KK33
, 5F033MM08
, 5F033NN06
, 5F033QQ04
, 5F033QQ37
, 5F033QQ48
, 5F033RR04
, 5F033RR06
, 5F033RR08
, 5F033RR09
, 5F033SS15
, 5F033TT02
, 5F033XX01
, 5F033XX31
引用特許:
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