プロセスガス供給ユニットの載せ替えシステム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：富澤孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-043090
公開番号（公開出願番号）：特開2001-235099
出願日： 2000年02月21日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】コンパクトで軽量なプロセスガス供給ユニットであって、各バリエーションに対応したモジュールの載せ替えが可能な、プロセスガス供給ユニットの載せ替えシステムを提供すること。【解決手段】逆止弁11、パージ弁12、遮断機能付きレギュレータ13、及びガス供給弁15、並びにマスフローコントローラ14又はセンサパックのいずれか一方を、流路21〜26の形成された一つのベースブロック10に搭載したプロセスガス供給ユニット1であって、マスフローコントローラ14とセンサパックとを同一のベースブロック10に対して載せ替え可能にしたこと。

請求項（抜粋）：

逆止弁、パージ弁、遮断機能付きレギュレータ、及びガス供給弁、並びにマスフローコントローラ又はセンサパックのいずれか一方を、流路の形成された一つのベースブロックに搭載したプロセスガス供給ユニットであって、前記マスフローコントローラとセンサパックとを同一のベースブロックに対して載せ替え可能にしたことを特徴とするプロセスガス供給ユニットの載せ替えシステム。

IPC (4件)：

F17D 1/04 , F16K 27/00 , H01L 21/3065 , H01L 21/205

FI (4件)：

F17D 1/04 , F16K 27/00 Z , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Fターム (19件)：

3H051BB02 , 3H051BB03 , 3H051CC01 , 3H051CC07 , 3H051FF01 , 3J071AA02 , 3J071BB14 , 3J071CC01 , 3J071CC11 , 3J071EE24 , 3J071EE27 , 3J071FF11 , 5F004AA16 , 5F004BC03 , 5F045EC07 , 5F045EE01 , 5F045EE04 , 5F045EE05 , 5F045EE17

引用特許：

審査官引用 (2件)

プロセスガス供給ユニット
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-137284 出願人：シーケーディ株式会社
プロセスガス供給ユニット
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-130210 出願人：シーケーディ株式会社

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