特許

J-GLOBAL ID：200903078536429250

プロセスガス供給ユニット

発明者： 伊藤 正人 ,  稲垣 俊康 ,  植田 稔 ,  矢田 雅彦 ,  板藤 寛
出願人/特許権者： シーケーディ株式会社
代理人 (1件)： 富澤 孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-130210
公開番号（公開出願番号）：特開平11-051226
出願日： 1998年05月13日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 小型化・集積化されると共に、全ての機器を同じ方向から取外し及び取付け可能なプロセスガス供給ユニットを提供すること。【解決手段】 マスフローコントローラ8、入力弁5、出力弁10、パージ弁6、真空弁9、逆止弁7、レギュレータ3、フィルタ13のうちの少なくとも2つの機器を有し、プロセスガスを供給するプロセスガス供給ユニットにおいて、(a)機器のうちの少なくとも1つが所定方向からボルト止めされるモジュールブロック42〜50と、(b)モジュールブロック42〜50が前記所定方向と同じ方向からボルト止めされるベースプレート21〜28と、(c)ベースプレート21〜28が前記所定方向と同じ方向からボルト止めされる取付パネル12とが備えられている。

請求項（抜粋）：

プロセスガス供給に使用されるコンポーネント部品の1つ又は2つ以上がボルト止めされるモジュールブロックと、前記モジュールブロックがボルト止めされるベースプレートと、前記ベースプレートがボルト止めされる取付パネルとを有することを特徴とするプロセスガス供給ユニット。

IPC (4件)：

F16K 27/00 ,  F17D 1/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

F16K 27/00 B ,  F17D 1/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ガス供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-045929   出願人：株式会社東芝, シーケーディ株式会社
• ガス供給集積ユニット及びそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-058148   出願人：シーケーディ株式会社
• 開閉弁取付構造
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-284061   出願人：シーケーディ株式会社, 株式会社東芝
• ガス供給集積ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-145432   出願人：シーケーディ株式会社
• 特開平4-004375