特許
J-GLOBAL ID：200903084500902374

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法

発明者：
竹内 恵

竹内 恵 について

, 
鈴木 寿幸

鈴木 寿幸 について

, 
牛田 正男

牛田 正男 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-097852
公開番号（公開出願番号）：特開2006-276648
出願日： 2005年03月30日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素として光学設計がなされる光半透過膜に関し、80°C高温水に対する耐性を実現する。【解決手段】透明基板上に、露光波長に対し所定の透過率を有し、窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素として光学設計がなされる光半透過膜が形成された位相シフトマスクブランクであって、 窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素として光学設計がなされた光学特性を維持しうる範囲で、前記窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする光半透過膜中に酸素を含有させ、前記窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする光半透過膜の耐高温水性を向上させたことを特徴とする位相シフトマスクブランク。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明基板上に、露光波長に対し所定の透過率を有し、窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素として光学設計がなされる光半透過膜が形成された位相シフトマスクブランクであって、 窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素として光学設計がなされた光学特性を維持しうる範囲で、前記窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする光半透過膜中に酸素を含有させ、前記窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする光半透過膜の耐高温水性を向上させたこと特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F1/08 A ,  G03F1/08 G ,  H01L21/30 502P
Fターム (3件)：
2H095BB03 ,  2H095BB22 ,  2H095BC05
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特許2966369号公報[0010]、[0063]、[0071]欄等
審査官引用 (4件)
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