特許
J-GLOBAL ID：200903084565019567
白金食刻方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-195370
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158663
出願日： 1998年07月10日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：
【要約】【課題】白金に対する食刻選択性の高いマスク物質及び食刻ガスを用いて信頼性ある白金食刻方法を提供する。【解決手段】白金食刻方法は、絶縁体21上に白金層23を形成する工程と、白金層23上に白金に対する高食刻選択性を有するマスク形成物質24を形成する工程と、マスク形成物質24をパターニングする工程と、パターニングされたマスク形成物質24を用いてマスク形成物質24と白金層23との食刻選択比が2以上となるように選択された食刻ガスを注入して白金層23を食刻する工程とを備える。
請求項（抜粋）：
絶縁体上に白金層を形成する工程と、前記白金層上に白金に対する高食刻選択性を有するマスク形成物質を形成する工程と、前記マスク形成物質をパターニングする工程と、前記パターニングされたマスク形成物質を用いて前記マスク形成物質と前記白金との食刻選択比が2以上となるように設定された食刻ガスを注入して前記白金層を食刻する工程と、を備えることを特徴とする白金食刻方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23F 4/00 A
, H01L 21/302 F
