特許
J-GLOBAL ID：200903084620657799
光導波路及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-112795
公開番号（公開出願番号）：特開平7-318735
出願日： 1994年05月26日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【目的】 コアの屈折率が光信号の伝搬方向に沿って変化しており、コアとクラッドとの間の比屈折率差Δが1%以上である光導波路及びその製造方法を提供する。【構成】 基板2上の低屈折率層3内に高屈折率のコア層4が埋め込まれた光導波路1において、コア層4が窒素Nを含有した材料からなり、コア層4の少なくとも一部を光信号の伝搬方向に沿って加熱することによりその屈折率を変化させたことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
基板上の低屈折率層内に高屈折率のコア層が埋め込まれた光導波路において、上記コア層が窒素を含有した材料からなり、上記コア層の少なくとも一部を光信号の伝搬方向に沿って加熱することによりその屈折率を変化させたことを特徴とする光導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
