特許
J-GLOBAL ID:200903084641468520
試料を光学測定する方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
江崎 光史
, 奥村 義道
, 鍛冶澤 實
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-516235
公開番号(公開出願番号):特表2008-544235
出願日: 2006年06月15日
公開日(公表日): 2008年12月04日
要約:
本発明は、試料を光学測定する方法に関する。電磁信号(2)が、試料に向かって一時的に繰り返し向けられて、試料中の物質が、第1電子状態(1)から第2電子状態(3)に遷移される。この場合、この物質の少なくとも一部が、第2状態(3)から光子を放射し、これらの光子は、試料を光学測定するために使用される。この場合、電磁信号(2)は、或る繰り返し期間で試料の同じ領域に向けられる。この場合、電磁信号(2)のこの繰り返し期間は、物質からの光子の量に関して最適化されている値に設定される。第2状態の寿命が1nsの大きさを有する物質での電磁信号の繰り返し期間は、少なくとも0.1μsの値に設定される。
請求項(抜粋):
試料を光学測定する方法にあって、
-この場合、電磁信号が、試料に向かって一時的に繰り返し向けられて、試料中の物質が、第1電子状態から第2電子状態に遷移され、
-この場合、この物質の少なくとも一部が、第2状態から光子を放射し、これらの光子は、試料を光学測定するために使用され、
-この場合、電磁信号は、或る繰り返し期間で試料の同じ領域に向けられ、
-この場合、電磁信号のこの繰り返し期間は、物質からの光子の量に関して最適化されている値に設定される方法において、
-第2状態の寿命が1nsの大きさを有する物質での電磁信号の繰り返し期間は、少なくとも0.1μsの値に設定されることを特徴とする方法。
IPC (1件):
FI (2件):
G01N21/64 F
, G01N21/64 E
Fターム (11件):
2G043EA01
, 2G043EA04
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043FA03
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043KA08
, 2G043KA09
, 2G043LA03
引用特許:
出願人引用 (3件)
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ドイツ連邦共和国特許出願公開第101 54 699号明細書
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米国特許出願公開第2002/0027202号明細書
-
ヨーロッパ特許第0666 473号明細書
審査官引用 (3件)
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