特許
J-GLOBAL ID：200903084651525696
テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼンとその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-221441
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048887
出願日： 1999年08月04日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 ケイ素上に水素と、電子供与性置換基を有するフェニル基を持つ、テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼン類を提供する。【解決手段】 テトラハロベンゼン類を、ハロシラン類を用いて、マグネシウム存在下でシリル化反応を行い、次いで有機リチウム試薬存在下でさらにシリル化反応させることにより、テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼン類を得る。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】(式中、R1は、電子供与性置換基を有するフェニル基を表す。)で表される、テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼン。
Fターム (14件)：
4H049VN01
, 4H049VP04
, 4H049VQ07
, 4H049VR11
, 4H049VR23
, 4H049VS07
, 4H049VS09
, 4H049VT03
, 4H049VT05
, 4H049VT26
, 4H049VU20
, 4H049VW02
, 4H049VW38
, 4H049VW39
