特許

J-GLOBAL ID：200903084688806342

プロキシミティ露光装置

発明者： 栗政 利彦 ,  大霜 征彦 ,  高橋 大吾 ,  久世 誠 ,  山口 悟
出願人/特許権者： 東レエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-162688
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012577
出願日： 2002年06月04日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】枠体に装着されたマスクの下面とワークステージ機構のワーク保持面との間隙寸法を正確に測定して所定の間隙寸法に調整することができすると共にワークステージ機構の上流側および下流側に設置されているワーク搬送機構との関係に不都合が生じることのないプロキシミティ露光装置を提供することである。【解決手段】露光光を照射する光照射機構と、パターンが形成されたマスクを保持する枠体を有するマスクステージ機構と、ワークを保持するワークステージ機構とを備えた露光装置において、前記枠体に装着されたマスクの下面とワークステージ機構のワーク保持面との間隙寸法を測定するための間隙測定手段が前記ワークステージ機構に設置されていると共に、間隙測定手段による測定結果に基づいて前記枠体を昇降させて間隙を調整するためのマスク枠体昇降調整手段を配設せしめた構成にしてある。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

露光光を照射する光照射機構と、パターンが形成されたマスクを保持する枠体を有するマスクステージ機構と、ワークを保持するワークステージ機構とを備えた露光装置において、前記枠体に装着されたマスクの下面とワークステージ機構のワーク保持面との間隙寸法を測定するための間隙測定手段が前記ワークステージ機構に設置されていると共に、間隙測定手段による測定結果に基づいて前記枠体を昇降させて間隙を調整するためのマスク枠体昇降調整手段を配設せしめたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。

IPC (2件)：

G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/20 521 ,  H01L21/30 511

Fターム (6件)：

5F046BA02 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA17 ,  5F046DB08 ,  5F046DC12

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平1-238014
  
• 近接露光装置のギャップセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-188608   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 露光装置および露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-215811   出願人：サンエー技研株式会社
• ウエハ搬送装置および方法ならびに半導体露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-087058   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平1-238014