特許
J-GLOBAL ID：200903084691966555

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-027979
公開番号（公開出願番号）：特開2006-215271
出願日： 2005年02月03日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：
【課題】 感度と解像性に優れ、更には表面荒れやアウトガスも抑制したレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(I)で表される酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 【化1】一般式(I)中、 Rは脂肪族基またはヘテロ原子を有していてもよい芳香族基を表す。 S1〜S4は各々独立に任意の置換基を表す。n、m、l、kは各々独立に0〜2の整数を表す。 Xは酸素原子、硫黄原子またはメチレン基を表す。 Yは有機スルホン酸アニオンを表す。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A1)下記一般式(1)で表される酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (14件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12
引用特許：
出願人引用 (12件)
  • 特開平2-150848号公報
  • 特開平4-291259号公報
  • フォトレジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-005794   出願人：住友化学工業株式会社
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