特許
J-GLOBAL ID:200903084782565529

対象物の表面処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 福村 直樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-513037
公開番号(公開出願番号):特表2005-531428
出願日: 2003年06月06日
公開日(公表日): 2005年10月20日
要約:
本発明は、対象物(3)の表面処理装置(1)に関し、処理工程を実施する所定数の処理ステーション(B1〜B8)と、処理動作を行う搬送装置とを含んでいる。対象物は、この搬送装置によって、処理ステーションの所望の定位置に搬送される。装置(1)は、被処理対象物(3)の処理動作と相関関係にあり、かつ、各処理ステーション(B1〜B8)に対してセントラルコンピュータ(7)を介して各処理工程を制御するクロックパルスをあらかじめ設定することによって、搬送装置の処理動作および処理ステーションの処理工程を同調させるセントラルコンピュータ(7)をさらに含んでいる。
請求項(抜粋):
処理工程を実施する所定数の処理ステーション(B1〜B8)と、処理動作を実行する搬送装置とを含み、前記搬送装置によって前記対象物が前記処理ステーション(B1〜B8)の所望の定位置に運搬される、対象物の表面処理装置であって、前記被処理対象物(3)の前記処理動作と相関関係にあり、かつ、各処理ステーション(B1〜B8)に対してセントラルコンピュータ(7)を介して前記各処理工程を制御するクロックパルスをあらかじめ設定することによって、前記搬送装置の前記処理動作および前記処理ステーションの前記処理工程を同調させるセントラルコンピュータ(7)を有することを特徴とする対象物の表面処理装置。
IPC (2件):
B41J2/01 ,  B41F17/22
FI (2件):
B41J3/04 101Z ,  B41F17/22
Fターム (7件):
2C056EA30 ,  2C056EB12 ,  2C056EB27 ,  2C056EB36 ,  2C056EC12 ,  2C056EC35 ,  2C056FB09
引用特許:
審査官引用 (2件)

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