特許
J-GLOBAL ID:200903084861705778
ドライエッチング方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-208769
公開番号(公開出願番号):特開2003-023001
出願日: 2001年07月10日
公開日(公表日): 2003年01月24日
要約:
【要約】【課題】 所定のエッチング深さにエッチングを行うこと及びプロセス異常を正確に判定できるドライエッチング方法及び装置を提供する。【解決手段】 内部が真空に保持される真空処理室1と、真空処理室1内にガスを導入する反応ガス導入手段と、被処理物4を載置する下部電極と、下部電極3に高周波電力を供給する高周波電源7とを有するドライエッチング装置において、電流、電圧及び位相差の基本波及び高調波とエッチングレートに関して予め相関式を作成しておき、エッチング処理時に検出した電流、電圧及び位相差の基本波及び高調波からエッチングレートを算出し、算出されたエッチングレートが予め設定された所定の範囲から外れた時に異常であると判定するようにした。
請求項(抜粋):
真空処理室にガスを導入しつつ真空排気して所定の圧力に維持し、真空処理室内の電極に高周波電力を印加してプラズマを発生させ、電極上に載置した被処理物をエッチングするドライエッチング方法において、電流、電圧及び位相差の基本波及び高調波とエッチングレートに関して予め相関式を作成しておき、エッチング処理時に検出された電流、電圧及び位相差の基本波及び高調波からエッチングレートを算出し、算出されたエッチングレートが予め設定されている所定の範囲から外れた時に異常であると判定することを特徴とするドライエッチング方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H05H 1/46 M
, H01L 21/302 C
Fターム (11件):
5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004CA02
, 5F004CA03
, 5F004CB05
, 5F004CB15
, 5F004DA01
, 5F004DA16
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB03
引用特許:
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