特許
J-GLOBAL ID：200903084878360340
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-284563
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199084
出願日： 1999年10月05日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：
【要約】【課題】 基板と薬液との温度差がある場合にも均一な基板処理が可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置10は、液晶ディスプレーの基板12を保持する回転チャック14と、この基板12にこの基板12より温度の高い薬液を吐出する薬液吐出ノズル16とを備える。薬液吐出ノズル16の吐出口26は、基板12の中央部より周辺部により多く薬液を吐出するように設定する。温度低下により中央部に対してエッチング処理が不十分になりやすい基板12の周辺部に対して、薬液の反応を促進することにより、均一な処理が可能になる。
請求項（抜粋）：
基板を保持する保持手段と、前記保持手段を回転させる回転手段と、前記基板にこの基板と温度の異なる薬液を吐出する薬液吐出手段と、前記基板の中央部から周辺部にかけて、前記基板と前記薬液との温度関係に基づいて薬液の反応速度を調整する反応調整手段とを具備したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
C23F 1/08 103
, B05C 9/14
, B05C 11/08
, B05D 3/00
, G02F 1/13 101
, H01L 21/306
C23F 1/08 103
, B05C 9/14
, B05C 11/08
, B05D 3/00 D
, G02F 1/13 101
, H01L 21/306 R
