特許
J-GLOBAL ID:200903084913486522

重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-042079
公開番号(公開出願番号):特開2007-219362
出願日: 2006年02月20日
公開日(公表日): 2007年08月30日
要約:
【課題】硬化速度が速く、かつ非常に鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、なおかつ基板との密着性に優れた、アルカリ現像性を有するネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式(1)で表される光ラジカル重合開始剤(A)、カルバゾール系増感剤(B)、ラジカル重合性化合物(C)、アルカリ可溶性樹脂(D)、およびチオール化合物(E)を含んでなる重合性組成物。 一般式(1)(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、1価の有機残基を表す。R3は水素原子もしくは1価の有機残基を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表される光ラジカル重合開始剤(A)、下記一般式(2)で表される増感剤(B)、ラジカル重合性化合物(C)、アルカリ可溶性樹脂(D)、およびチオール化合物(E)を含んでなる重合性組成物。 一般式(1)
IPC (6件):
G03F 7/031 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00 ,  C08F 2/50 ,  C08F 4/00
FI (6件):
G03F7/031 ,  G03F7/004 503Z ,  H01L21/30 502R ,  H05K3/00 F ,  C08F2/50 ,  C08F4/00
Fターム (20件):
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17 ,  4J011SA78 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J015EA03 ,  4J015EA04
引用特許:
出願人引用 (8件)
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