特許

J-GLOBAL ID：200903084955905657

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 横内 健一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-153100
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340248
出願日： 2004年05月24日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：

【課題】処理液供給時における処理液の飛び跳ねを抑制し、基板の端面に対向していない開口部への処理液の飛入を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 【解決手段】ウエハWをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック1と、このスピンチャック1に保持されたウエハWの表面に処理液としての第1薬液、第2薬液および純水を供給するための移動ノズル2とが備えられている。移動ノズル2は、第1薬液吐出口、第2薬吐出口および純水吐出口から、それぞれ第1薬液、第2薬液および純水をウエハWの表面に対してほぼ垂直な方向に吐出する。移動ノズル2からウエハWへの処理液の供給時には、移動ノズル2がウエハWの回転軸線上に移動される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板を保持して、その基板を回転させる基板回転手段と、 この基板回転手段によって回転される基板の回転軸線上の位置と、その回転軸線上から外れた退避位置との間で移動可能に設けられ、当該基板の表面に対してほぼ垂直な方向に処理液を吐出する移動ノズルと、 この移動ノズルを上記回転軸線上の位置と上記退避位置との間で移動させるためのノズル移動手段と、 上記基板回転手段を取り囲む環状にそれぞれ形成され、上記基板回転手段によって回転される基板の端面に対して選択的に対向して、その対向する状態で当該基板から飛散する処理液を受け入れる複数段の開口部を有する回収カップと、 上記基板回転手段と上記回収カップとを相対的に移動させて、上記複数段の開口部を上記基板回転手段によって回転される基板の端面に対して選択的に対向させるための移動手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

FI (8件)：

H01L21/304 643A ,  B08B3/02 B ,  G02F1/13 101 ,  G03F7/16 502 ,  G03F7/30 502 ,  H01L21/30 564Z ,  H01L21/30 569A ,  H01L21/30 572B

Fターム (33件)：

2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H096AA25 ,  2H096CA14 ,  2H096GA30 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB48 ,  3B201BB24 ,  3B201BB33 ,  3B201BB46 ,  3B201BB92 ,  3B201BB99 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  5F046JA05 ,  5F046JA08 ,  5F046JA27 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07 ,  5F046LA19 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平2-51299号公報
  

審査官引用 (2件)

• 液処理装置および液処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-245645   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-293790   出願人：大日本スクリーン製造株式会社