特許

J-GLOBAL ID：200903085020347911

化学増幅型感放射線性組成物

発明者： 落合 為一 ,  新実 高明
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027846
公開番号（公開出願番号）：特開平9-222722
出願日： 1996年02月15日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：

【要約】【課題】 高解像度を達成する感放射線性塗布組成物を提供し、露光と露光後のベークとの間の引置き時間に対して安定であり、また側壁荒れのない良好な形状を有し、実用上極めて有用なレジストパターンを得る。【解決手段】 塗膜形成性樹脂、放射線により酸を発生する化合物、及び溶媒として下記式(A)で表わされる化合物を含有することを特徴とする化学増幅型感放射線性組成物。【化1】(R1、R2、R3はハロゲン原子で置換されていても良いC1〜C3のアルキル基を表わし、相互に同じでも異なっていても良い。)

請求項（抜粋）：

塗膜形成性樹脂、放射線により酸を発生する化合物、及び溶媒として下記式(A)で表わされる化合物を含有することを特徴とする化学増幅型感放射線性組成物。【化1】(R1、R2、R3はハロゲン原子で置換されていても良いC1〜C3のアルキル基を表わし、相互に同じでも異なっていても良い。)

IPC (5件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-054121   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型化学増幅系レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-344419   出願人：日本合成ゴム株式会社
• カラーフィルタ用感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-069769   出願人：日本合成ゴム株式会社
• レジスト塗布組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-197813   出願人：日本合成ゴム株式会社