レジスト塗布組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-197813
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036189
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：

【要約】【構成】放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するポジ型レジスト塗布組成物において、溶剤がプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートであることを特徴とするポジ型レジスト塗布組成物。【効果】本発明のポジ型レジスト塗布組成物は、微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト塗布組成物として好適である。また、本発明のポジ型レジスト塗布組成物はi線などの紫外線、エキシマレーザーなどの遠紫外線、シンクロトロン放射線などのX線、電子線などの荷電粒子線といった、放射線のいずれにも対応でき、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造用の化学増幅型ポジ型レジストとして有用に使用できる。

請求項（抜粋）：

放射線照射により酸を発生させ、その酸の触媒作用による化学変化によって、放射線照射部分の現像液に対する溶解性を変化させてパターンを形成するポジ型レジスト塗布組成物において、溶剤がプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートであることを特徴とするポジ型レジスト塗布組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭62-038448
特開平3-100551
特開平2-019747

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