特許
J-GLOBAL ID:200903085022504860
低中層建築物における地盤構築構造及び地盤構築方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
柳野 隆生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-057434
公開番号(公開出願番号):特開2000-257055
出願日: 1999年03月04日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 コストの高騰を抑えながらも、強度の向上を図ることができる低中層建築物における地盤構築構造及び基礎構築方法を提供する点にある。【解決手段】 所定深さの縦穴Aを形成するための掘削手段と、この掘削手段にて掘り出した排土7等と固化材8とを地上で混合する混合手段と、この混合手段により混合された固化材混合物9を前記縦穴A内に戻した後、前記固化材混合物9を攪拌しながら水を加える加水混合手段と、前記加水混合手段により混合された加水混合物10が固化する前に管11を該加水混合物10内に挿入する管挿入手段とからなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
所定深さの縦穴を形成するための掘削手段と、この掘削手段にて掘り出した排土等と固化材とを地上で混合する混合手段と、この混合手段により混合された固化材混合物を前記縦穴内に戻した後、前記固化材混合物を攪拌しながら水を加える加水混合手段と、前記加水混合手段により混合された加水混合物が固化する前に管を該加水混合物内に挿入する管挿入手段とからなる低中層建築物における地盤構築構造。
IPC (3件):
E02D 3/00 101
, E02D 3/12
, E21B 7/00
FI (3件):
E02D 3/00 101
, E02D 3/12
, E21B 7/00 E
Fターム (16件):
2D029CA02
, 2D029CB01
, 2D029CC02
, 2D040AA01
, 2D040AB03
, 2D040BA06
, 2D040BB03
, 2D040BD05
, 2D040CA01
, 2D040CA10
, 2D040CB01
, 2D043CA01
, 2D043CA12
, 2D043EA01
, 2D043EA06
, 2D043EA10
引用特許: