特許
J-GLOBAL ID：200903085193281100

マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、液晶パネル用対向基板の製造方法、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置

発明者：
四谷 真一

四谷 真一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-036118
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235105
出願日： 1999年02月15日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】【課題】位置決めが容易なマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を提供すること。【解決手段】マイクロレンズ用凹部付き基板2は、CVD法により石英ガラス基板5の表面に多結晶シリコンのマスク層6を形成する工程と、ドライエッチングによりマスク層6に第1開口61および第2開口62を形成する工程と、アライメントマーク4を形成すべく、スパッタリングによりマスク層6上にAu/Cr膜で構成された保護層7を形成する工程と、ウエットエッチングにより石英ガラス基板5上に多数の凹部3を形成する工程と、ドライエッチングによりマスク層6を除去する工程と、ウエットエッチングにより保護層7を除去してアライメントマーク4を形成する工程とを経ることにより製造される。
請求項（抜粋）：
ガラス基板にエッチングを施し、前記ガラス基板上に多数のマイクロレンズ用凹部を形成するに際し、前記マイクロレンズ用凹部の形成領域外に、位置決めを行う際の指標となるアライメントマークを形成することを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 3/00 ,  C03C 15/00 ,  G02F 1/1335 ,  B29D 11/00
FI (5件)：
G02B 3/00 A ,  G02B 3/00 Z ,  C03C 15/00 D ,  G02F 1/1335 ,  B29D 11/00
Fターム (32件)：
2H091FA05X ,  2H091FA05Z ,  2H091FA14Z ,  2H091FA26X ,  2H091FA26Z ,  2H091FA29Y ,  2H091FC01 ,  2H091FC26 ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091GA16 ,  2H091LA03 ,  2H091MA07 ,  4F213AD04 ,  4F213AH73 ,  4F213WA56 ,  4F213WA67 ,  4F213WA72 ,  4F213WA74 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4G059AA06 ,  4G059AA11 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AC12 ,  4G059BB01 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA16
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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