特許

J-GLOBAL ID：200903085278868533

積層体の製造方法、積層体、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス表示装置

発明者： ▲高▼島 洋祐 ,  棚橋 清一 ,  飛沢 誠一
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-022226
公開番号（公開出願番号）：特開2007-207469
出願日： 2006年01月31日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】基板の上に形成された凸状の構造物の上に、凸状の構造物の厚さに対して同じか又は薄い有機機能膜を塗設する場合、安定した有機機能膜を有した積層体の製造方法及びこの積層体の製造方法による有機EL素子の製造方法、有機EL表示装置の提供。【解決手段】少なくとも1つの凸状の構造物と、前記構造物の非形成領域に形成する第1機能膜と、前記構造物の上に形成された第2機能膜とをこの順番で有する構成体を少なくとも1つ基材の上に有する積層体の製造方法において、前記第1機能膜の乾燥後の厚さをZ、前記構造物の厚さをX、前記構造物の上に形成される第2機能膜の乾燥後の厚さをYとした時、X≧Yの関係を有し、且つ、第1機能膜を、X-Y≦Z<Xの関係を有するようにし形成した後、少なくとも前記構造物の上に乾燥後の厚さがYになるように第2機能膜を前記第1機能膜の上を含め形成することを特徴とする積層体の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの凸状の構造物と、前記構造物の形成されていない領域に形成された第1機能膜と、前記構造物の上を含め前記第1機能膜の上に形成された第2機能膜とをこの順番で有する構成体を少なくとも1つ基材の上に有する積層体の製造方法において、 前記構造物の非形成領域に形成する第1機能膜の乾燥後の厚さをZ、前記構造物の厚さをX、前記構造物の上に形成される第2機能膜の乾燥後の厚さをYとした時、 前記構造物の厚さXと、第2機能膜の乾燥後の厚さYとが、X≧Yの関係を有し、且つ、第1機能膜の乾燥後の厚さZを、X-Y≦Z<Xの関係を有するようにし形成した後、 少なくとも前記構造物の上に乾燥後の厚さがYになるように第2機能膜を前記第1機能膜の上を含め形成することを特徴とする積層体の製造方法。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22

FI (3件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z

Fターム (7件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BA07 ,  3K007CA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 有機EL素子の製造方法、有機EL素子製造システムおよび電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-146439   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 有機EL素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-128067   出願人：キヤノン株式会社