低放射ガラスの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-175389
公開番号（公開出願番号）：特開平11-020081
出願日： 1997年07月01日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】格段に優れた耐久性(特に、耐湿性)被膜を有し、該被膜に斑点等の欠陥が発生しない、長期的に優れた低放射性能を維持する低放射ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】ガラス表面に誘電体層、金属層、誘電体層の少なくとも3層からなる薄膜を形成するに、金属層を形成する時の成膜室中の水蒸気分圧を2×10-5mbar以下に保持した状態で成膜する方法。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に、少なくとも第1層として誘電体層、第2層として金属層、第3層として誘電体層からなる薄膜を順次形成する真空成膜方法において、金属層を形成する時の成膜室内の雰囲気中の水蒸気分圧を2×10-5mbar以下に保持することを特徴とする低放射ガラスの製造方法。

IPC (8件)：

B32B 17/06 , B32B 7/02 104 , B32B 9/00 , B32B 15/04 , C03C 4/08 , C03C 17/36 , C23C 14/18 , C23C 14/34

FI (8件)：

B32B 17/06 , B32B 7/02 104 , B32B 9/00 A , B32B 15/04 B , C03C 4/08 , C03C 17/36 , C23C 14/18 , C23C 14/34 M

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-188446
連続真空シール装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-181803 出願人：花王株式会社
Zn-Mg合金めっき鋼板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-347739 出願人：日新製鋼株式会社

全件表示

前のページに戻る