特許
J-GLOBAL ID：200903085314735308
反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-023884
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221855
出願日： 1997年02月06日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、加熱乾燥時にフォトレジスト中への拡散物がなく、フォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、所定の基板上に微細な画像を精密に描くことのできる反射防止膜材料組成物及びレジストパターン形成方法を得る。【解決手段】 主鎖中にビニルアルコールを繰り返し構造単位として含む高分子化合物の該アルコール部の少なくとも一部に、365nm、248nmまたは193nmのうちのいずれかの波長光に対してのモル吸光係数が10,000以上であるクロモフォアが連結した構造を有する高分子化合物を含有する反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
主鎖中にビニルアルコールを繰り返し構造単位として含む高分子化合物の該アルコール部の少なくとも一部に、365nm、248nmまたは193nmのうちのいずれかの波長光に対してのモル吸光係数が10,000以上であるクロモフォアが連結した構造を有する高分子化合物を含有することを特徴とする反射防止膜材料組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/11 503
, C09D 5/00
, C09D129/04
, G03F 7/004 506
, H01L 21/027
G03F 7/11 503
, C09D 5/00 M
, C09D129/04 Z
, G03F 7/004 506
, H01L 21/30 574
