特許

J-GLOBAL ID：200903085433750501

光学装置およびそのためのプローブ

発明者： 保坂 純男 ,  菊川 敦 ,  新谷 俊通
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-340271
公開番号（公開出願番号）：特開平9-180274
出願日： 1995年12月27日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】 情報記録やパターン形成には使用するエバネッセント光量を制御できるようにして記録ビットの大きさやパターン幅等が制御できるようにすること。【解決手段】 レーザ光を2つ以上の光ファイバに分ける光結合器あるいはどちらかに通す光スイッチを用い少なくとも1つの光ファイバの先端を尖鋭化しエバネッセント光プローブとした光ファイバプローブを用いる。ファイバと光結合器あるいは光スイッチとが一体化されたプローブとすることでプローブへの損傷に容易に対応することが出来る。

請求項（抜粋）：

エバネッセント光を利用する光学装置のプローブであって、光を2つ以上の光ファイバに分ける光結合器、あるいはどちらかに通す光スイッチを有し、該素子を構成している少なくとも1つの光ファイバの先端を尖鋭化し、エバネッセント光プローブとしたことを特徴とするプローブ。

IPC (5件)：

G11B 9/00 ,  G01N 21/01 ,  G02B 6/00 ,  G02B 6/28 ,  G11B 7/135

FI (5件)：

G11B 9/00 ,  G01N 21/01 D ,  G11B 7/135 A ,  G02B 6/00 B ,  G02B 6/28 W

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-070002
  
• 光ファイバプローブ記録及び観察装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-330501   出願人：株式会社日立製作所
• サンプル上にガス経路によりナノメトールパターンを生成し光学分析する装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-352311   出願人：フランス・テレコム・エタブリスマン・オウトノム・デ・ドロワ・パブリック
• 特開昭54-070002