特許

J-GLOBAL ID：200903085451881400

形状測定装置

発明者： 森本 勉 ,  高松 弘行
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-137058
公開番号（公開出願番号）：特開2003-329429
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】 被測定物の表面形状及びそのエッジを被接触かつ高精度で測定できる形状測定装置を提供すること。【解決手段】 ウェハ1の主面1aに向かって照射した光の反射光を計測する干渉計10と,ウェハ1の裏面1b側から前記反射光に平行な光を照射し,これがウェハ1の背景光として主面1b側の干渉計10の受光器16に入射するよう構成された背景光照射手段21と,干渉計10により得られた画像の起動情報に基づいて前記背景光の領域とその他の領域との境界をウェハ1のエッジとして検出するエッジ検出手段31とを具備してなることを特徴とする形状測定装置。さらに,干渉計10が斜入射干渉計の場合,干渉計10により計測される前記反射光及び前記背景光と,検出対象となるウェハ1のエッジが形成する辺とが,ウェハ1の面に垂直な方向から見て略平行となるよう構成する。

請求項（抜粋）：

被測定物の測定面に向かって照射した光の反射光を計測する干渉計を具備し,該干渉計により得られた画像に基づいて前記被測定物の形状を測定する形状測定装置において,前記被測定物の測定面の反対側から前記反射光に平行な光を照射し,照射した光が前記被測定物の背景光として前記干渉計に入射するよう構成された背景光照射手段と,前記干渉計により得られた画像に基づいて前記背景光の領域とその他の領域との境界を前記被測定物のエッジとして検出するエッジ検出手段と,を具備してなることを特徴とする形状測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/30 101 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G01B 11/30 101 A ,  H01L 21/66 J

Fターム (14件)：

2F065AA12 ,  2F065AA47 ,  2F065CC19 ,  2F065FF04 ,  2F065FF51 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA70 ,  4M106DH12

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 試料検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-251134   出願人：株式会社ニデック
• 表面検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-059382   出願人：株式会社ニデック