特許

J-GLOBAL ID：200903027757598222

表面検査装置

発明者： 山本 貴靖 ,  田中 基司 ,  今泉 智
出願人/特許権者： 株式会社ニデック
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-059382
公開番号（公開出願番号）：特開2003-254729
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：

【要約】【課題】 安定して信頼性の高い表面形状情報を得ることができる表面検査装置を提供すること。【解決手段】 干渉縞形成用の光学素子と被測定物とにより形成される干渉縞像を撮像し、該干渉縞像を基に被測定物の表面形状を解析する表面検査装置において、前記被測定物のエッジを含む領域を照明する照明光学系と、該照明光学系により照明された前記被測定物のエッジ像を撮像するエッジ像撮像手段と、該撮像されたエッジ像に基づいて前記干渉縞像の解析領域を決定する解析領域決定手段と、を備える。

請求項（抜粋）：

干渉縞形成用の光学素子と被測定物とにより形成される干渉縞像を撮像し、該干渉縞像を基に被測定物の表面形状を解析する表面検査装置において、前記被測定物のエッジを含む領域を照明する照明光学系と、該照明光学系により照明された前記被測定物のエッジ像を撮像するエッジ像撮像手段と、該撮像されたエッジ像に基づいて前記干渉縞像の解析領域を決定する解析領域決定手段と、を備えることを特徴とする表面検査装置。

FI (3件)：

G01B 11/24 A ,  G01B 11/24 D ,  G01B 11/24 K

Fターム (27件)：

2F065AA12 ,  2F065AA47 ,  2F065BB03 ,  2F065CC03 ,  2F065CC19 ,  2F065EE00 ,  2F065FF08 ,  2F065FF52 ,  2F065GG05 ,  2F065HH03 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL13 ,  2F065MM16 ,  2F065PP02 ,  2F065PP11 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ34 ,  2F065SS02 ,  2F065SS04 ,  2F065SS13

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 面形状測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-290290   出願人：キヤノン株式会社
• 形状計測装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-226522   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 画像計測装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-362640   出願人：株式会社ミツトヨ
• 試料検査装置及び試料検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-033347   出願人：株式会社ニデック