特許

J-GLOBAL ID：200903085558386372

パターン形成材料及びパターン形成方法

発明者： 岸村 眞治 ,  笹子 勝 ,  上田 充
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 前田 弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-117688
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305737
出願日： 2000年04月19日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】【課題】 露光光として1nm帯〜30nm帯又は110nm帯〜180nm帯の波長を持つ露光光を用いてレジストパターンを形成する場合に、スカムを殆ど発生させることなく、良好なパターン形状を有するレジストパターンが得られるようにする。【解決方法】 パターン形成材料は、[化1]の一般式で表わされるシロキサン化合物(但し、R1 は、同種又は異種であって、アルキル化合物、エステル化合物、エーテル化合物、スルフォン化合物、スルフォニル化合物又は芳香族化合物である。)を含むベース樹脂を有している。【化1】

請求項（抜粋）：

[化1]の一般式で表わされるシロキサン化合物(但し、R1は、同種又は異種であって、アルキル化合物、エステル化合物、エーテル化合物、スルフォン化合物、スルフォニル化合物又は芳香族化合物である。)を含むベース樹脂を有することを特徴とするパターン形成材料。【化1】

IPC (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 77/14 ,  C08G 77/28 ,  C08G 77/48 ,  C08L 83/06 ,  C08L 83/08 ,  C08L 83/14 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027

FI (11件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 77/14 ,  C08G 77/28 ,  C08G 77/48 ,  C08L 83/06 ,  C08L 83/08 ,  C08L 83/14 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 515 B

Fターム (35件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB32 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H097BA06 ,  2H097CA13 ,  2H097FA03 ,  2H097JA03 ,  2H097LA10 ,  4J002CP031 ,  4J002CP051 ,  4J002CP101 ,  4J002CP191 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J035BA11 ,  4J035BA12 ,  4J035BA15 ,  4J035CA072 ,  4J035CA262 ,  4J035HA01 ,  4J035LB16 ,  5F046CA04 ,  5F046CA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• シリコーン樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-089441   出願人：新日鐵化学株式会社
• ケイ素含有感光性樹脂及びこれを含有する組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-122672   出願人：新日鐵化学株式会社