レジスト材料

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮越典明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-346084
公開番号（公開出願番号）：特開平11-174670
出願日： 1997年12月16日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】化学増幅ポジ型レジストにおいて、レジストパターンでのT字型形状及び膜減りを解消し、矩形なレジストパターンを再現性よく形成できる化学増幅ポジ型レジストを提供する。【解決手段】本発明の化学増幅ポジ型レジストは、分子構造内に塩基性官能基を有し、かつ露光により両性イオンが発生する酸発生剤P101(特にスルファニル酸イミド化合物、具体的には、スルファニル酸フタリミド,スルファニル酸ナフタリミドまたはスルファニル酸スクシンイミド化合物)を含有することを特徴とし、露光後に発生した酸A106は、塩基性官能基とイオン対+A-107を効率良く形成する。このため、雰囲気由来の塩基性物質B108により酸A106が失活することがなく、その結果、レジストの耐環境性能が向上し、矩形なレジストパターンが得られ、焦点深度,寸法精度とも7%以上の向上を図ることができる。

請求項（抜粋）：

分子構造内に塩基性官能基を有し、かつ露光により両性イオンを発生する酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト材料。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-148742 出願人：日本合成ゴム株式会社
放射感応性混合物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-080519 出願人：ヘキストジャパン株式会社
特開平4-100870

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