特許
J-GLOBAL ID：200903085654289507
パタ-ン欠陥検出装置および修正装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155507
公開番号（公開出願番号）：特開2000-146537
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 光学的には検出が困難であったコントラストの低い対象物の欠陥を検出可能な欠陥検出装置および修正装置を提供する。【解決手段】 照明光源1からの光をポラライザ8で直線偏光とし、ダイクロックミラー2で反射された後ウォラストンプリズム6および対物レンズ3を通過することによって2つの平行な光に分かれて対象物4に入射させる。対象物4で反射した2つの光は振動方向が互いに直交する直線偏光であり、対物レンズ3,ウォラストンプリズム6を通過して再び1本の光に戻り、アナライザ7によって互いに干渉させ、CCDカメラ5で撮像する。微分干渉型光学系10は対象物4の膜厚に対して依存性を有しない像を抽出するので、CCDカメラ5で撮像した画像信号を画像処理装置20で処理することによって容易に欠陥を検出する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたパターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出装置であって、対象物の微分干渉像を抽出するための微分干渉型光学系と、前記微分干渉型光学系より得られる前記対象物の微分干渉像を撮像して画像信号を出力する撮像手段と、前記撮像手段によって撮像された画像信号を処理して欠陥部位を検出する画像処理手段とを備えた、パターン欠陥検出装置。
IPC (4件)：
G01B 11/24
, B23K 26/00
, H01L 21/66
, H05K 3/00
G01B 11/24 F
, B23K 26/00 M
, B23K 26/00 C
, H01L 21/66 X
, H05K 3/00 Q
, G01B 11/24 K
