特許
J-GLOBAL ID：200903085684019601

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者：
田村 仁

田村 仁 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 小堀 益 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-228389
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045850
出願日： 2001年07月27日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ処理に最適な周波数を選択でき、小型化が可能なプラズマ処理装置及びこれを用いたプラズマ処理方法を提供すること。【解決手段】 電磁波放射機構上を流れる表面電流を横切る箇所に、誘電体6を配置する。電磁波放射機構はスロットアンテナ7を有し、誘電体6はスロットアンテナ7の内部に設ける。これにより、プラズマ処理室5内の電磁界分布が調整でき、しかも誘電体6によりスロットアンテナ7中の電磁波を所望の波長に制御することで、スロットアンテナ7の長さを短くでき、これを設ける円盤状アンテナ1の大きさに収まるようにすることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理室に投入される電磁波によりプラズマを発生し試料を処理するプラズマ処理装置において、前記電磁波をプラズマ処理室に投入する電磁波放射機構がスロットアンテナを有し、該スロットアンテナに誘電体を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
C23C 16/511 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B
Fターム (19件)：
4K030FA01 ,  4K030JA06 ,  4K030JA09 ,  4K030JA18 ,  4K030KA15 ,  4K030KA20 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA16 ,  5F004BB11 ,  5F045AA10 ,  5F045BB02 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH08 ,  5F045EH17 ,  5F045EH19
引用特許：
審査官引用 (3件)

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