特許

J-GLOBAL ID：200903085787366474

光学多層膜フィルタの製造方法、光学多層膜フィルタおよび固体撮像デバイス

発明者： 澁谷 宗裕
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-067636
公開番号（公開出願番号）：特開2007-248495
出願日： 2006年03月13日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：

【課題】ヘイズが低く、透明性に優れる光学多層膜フィルタを安定して製造する方法および光学多層膜フィルタ、さらに、そのような光学多層フィルタを備えた固体撮像デバイスを提供すること。【解決手段】ガラス基板または水晶基板の上に光学薄膜を形成する光学多層膜フィルタの製造方法であって、光学薄膜の形成工程において、Arより大きな原子量を持つ不活性原子と酸素分子とを含んでなる混合ガスを用いてイオンアシスト蒸着を行う。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板上にイオンアシスト蒸着により光学薄膜を形成する光学多層膜フィルタの製造方法であって、 前記光学薄膜の形成工程において、Arより大きな原子量を持つ不活性原子と酸素分子とを含んでなる混合ガスを用いてイオンアシスト蒸着を行うことを特徴とする光学多層膜フィルタの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/28 ,  H01L 27/14 ,  G02B 5/26

FI (3件)：

G02B5/28 ,  H01L27/14 D ,  G02B5/26

Fターム (18件)：

2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA12 ,  2H048FA18 ,  2H048FA24 ,  2H048GA04 ,  2H048GA14 ,  2H048GA17 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA65 ,  4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118FA06 ,  4M118GC11 ,  4M118HA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 多層膜光学部品およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-083176   出願人：キヤノン株式会社
• 光干渉フィルターの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-345038   出願人：凸版印刷株式会社