特許
J-GLOBAL ID：200903085807475445

ガラス基板用研磨液組成物

発明者：
西本 和彦

西本 和彦 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-359842
公開番号（公開出願番号）：特開2006-167817
出願日： 2004年12月13日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】洗浄後の基板汚れが極めて少なく、研磨速度が高く、且つ表面平滑性に優れたガラス基板用研磨液組成物、該ガラス基板用研磨液組成物を用いるガラス基板の製造方法を提供すること。【解決手段】一次粒子の平均粒径が1〜100nmであるシリカとスルホン酸基を有する重合体と水とを含有してなるガラス基板用研磨液組成物、該研磨液組成物を研磨パッドと被研磨基板の間に存在させ、3〜12kPaの研磨荷重で研磨する工程を有するガラス基板の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一次粒子の平均粒径が1〜100nmであるシリカとスルホン酸基を有する重合体と水とを含有してなるガラス基板用研磨液組成物。
IPC (2件)：
B24B 37/00 ,  C09K 3/14
FI (4件)：
B24B37/00 H ,  B24B37/00 B ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z
Fターム (7件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA12 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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