特許
J-GLOBAL ID：200903085817968849
パターン製造方法およびパターン製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-148019
公開番号（公開出願番号）：特開平11-340129
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ法におけるレジストパターン形成工程の欠点を排除する。【解決手段】 溶質であるレジスト材料を溶媒に溶解させて流動体(11-1n)を製造する。この流動体をインクジェット式ヘッド(21-2n)からパターン形成面(100)に吐出させる。
請求項（抜粋）：
パターン形成面にレジストパターンを形成するためのパターン製造方法であって、溶質であるレジスト材料を溶媒に溶解させた流動体の液滴を前記パターン形成面に付着させる工程を備えていることを特徴とするパターン製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B41J 2/01
, G03F 7/16 501
H01L 21/30 564 Z
, G03F 7/16 501
, B41J 3/04 101 Z
