薄膜形成方法及び薄膜形成装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝本智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-008098
公開番号（公開出願番号）：特開平9-192573
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】【課題】塗布液の利用効率を向上し、周囲環境変動の影響を受けにくい膜形成方法及び薄膜形成装置を提供することを目的とする。【解決手段】塗布液を貯蔵するタンク13と、被塗布基板11上にタンク13からの塗布液を吐出する吐出手段12と、被塗布基板11を吐出手段12に対して塗布液の吐出が開始される第1の位置及び塗布液の吐出が終了する第2の位置を経由するように相対的に移動する移動手段10bと、被塗布基板11を回転する回転手段10aと、被塗布基板11の吐出手段12に対する相対的な移動を、第1の位置から第2の位置までの少なくとも一部において、被塗布基板11の回転運動により塗布液が流動する流動方向と反対向きであるように移動手段10bを制御する制御手段とを有する薄膜形成装置及び薄膜形成方法。

請求項（抜粋）：

被塗布基板を吐出トヘッドから塗布液が吐出され始める第1の位置まで前記吐出ヘッドと相対的に移動する第1の移動工程と、前記第1の位置の被塗布基板を前記吐出トヘッドから塗布液が吐出され終わる第2の位置まで前記吐出ヘッドと相対的に移動する第2の移動工程と、前記第2の位置の被塗布基板を更に前記吐出ヘッドと相対的に移動する第3の移動工程と、少なくとも前記第2の移動工程と時間的に重複して前記被塗布基板を回転運動させる回転工程と、前記第2の移動工程及び前記回転工程と時間的に重複して前記被塗布基板上に前記吐出ヘッドから塗布液を吐出して薄膜を形成する薄膜形成工程とを有する薄膜形成方法であって、前記第2の移動工程における相対的な移動は、前記被塗布基板の回転運動により塗布液が流動する流動方向と反対向きである薄膜形成方法。

IPC (2件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40

FI (2件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 A

引用特許：

審査官引用 (7件)

塗布装置および塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-346141 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-199106 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
着色樹脂の塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-173566 出願人：富士通株式会社

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