特許
J-GLOBAL ID：200903085876875650
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-245584
公開番号（公開出願番号）：特開2002-057111
出願日： 2000年08月14日
公開日（公表日）： 2002年02月22日
要約：
【要約】【課題】 反応室内壁に対する薄膜の堆積量を具体的な構造によって直接検出することができるようにし、それにより、作業者が手動で行っていた作業を自動化して、無駄がなく、しかも、計算ミスもないクリーニング処理が実行できるようにする。【解決手段】 反応室11内にて基板に薄膜を形成する基板処理装置において、反応室11の壁の少なくとも一部をセンサ光の透過する透過壁とし、該透過壁の外部に透過式光センサ5の投光部5Aと受光部5Bを配置し、投光部5Aから透過壁を通して受光部5Bに入射するセンサ光の受光状態に基づいて、反応室11の内壁への薄膜4の堆積量を検出する。
請求項（抜粋）：
反応室内にて基板に薄膜を形成する基板処理装置において、前記反応室の壁の少なくとも一部をセンサ光の透過する透過壁とし、該透過壁の外部に透過式光センサの投光部と受光部を配置し、投光部から透過壁を通して受光部に入射するセンサ光の受光状態に基づいて、反応室の内壁への薄膜の堆積量を検出することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44 J
4K030DA06
, 4K030KA08
, 4K030KA37
, 4K030KA39
, 5F045BB10
, 5F045BB20
, 5F045EB06
, 5F045EC03
, 5F045GB11
