特許
J-GLOBAL ID：200903085894537850

データ処理方法、データ処理装置およびデータ記録方法

発明者：
柴田 烈

柴田 烈 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-044340
公開番号（公開出願番号）：特開2008-207385
出願日： 2007年02月23日
公開日（公表日）： 2008年09月11日
要約：
【課題】 インク同士の接触によって生じる凝集を軽減しつつも、どうしても発生する凝集箇所を好適に配置させることによって一様性に優れた画像を出力する。【解決手段】 例えば凝集を起こすなどの弊害が懸念されるインク色を特定色とし、特定色とこれ以外のインクに対し、排他的でありながらその積層過程においてドットの配置の低周波数成分が抑えられるようなマスクパターンを用意する。これにより、画像の完成に至る各段階のドットの接触や重なりを、極力排除することが出来、色ムラや時間差ムラを抑制することができる。更に、ドットの接触や重なりが排除しきれない場合でも、そのような接触箇所が好適に分散して配置されるので、視覚的に目障りになりにくい画像を得ることが出来る。【選択図】 図13
請求項（抜粋）：
複数種類のドットを記録媒体に記録する複数のノズル群を、記録媒体の同一領域に対し複数回の走査を行なうために、当該複数回の走査それぞれで記録する画像データを生成するためのデータ処理方法であって、 前記複数種類のドットそれぞれに対応した複数種類のマスクパターンを用いて、前記複数種類のドットに対応した画像データを前記複数回の走査それぞれで記録する画像データに分割する工程を有し、 前記複数種類のマスクパターンのうち、少なくとも第1の種類のドットを記録するための前記複数回の走査に対応した複数の第1マスクパターンにおける記録許容画素の配列と第2の種類のドットを記録するための前記複数回の走査に対応した複数の第2マスクパターンにおける記録許容画素の配列は排他の関係にあり、 前記複数の第1マスクパターンのうちの所定の第1マスクパターンと前記複数の第2マスクパターンのうちの所定の第2マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも小さい特性を有するように、前記所定の第1マスクパターンと前記所定の第2マスクパターンそれぞれの記録許容画素は互いに関連付けて配列されていることを特徴とするデータ処理方法。
IPC (7件)：
B41J 2/01 ,  H04N 1/46 ,  B41J 2/205 ,  B41J 2/21 ,  H04N 1/60 ,  G06T 1/00 ,  G06T 5/00
FI (7件)：
B41J3/04 101Z ,  H04N1/46 Z ,  B41J3/04 103X ,  B41J3/04 101A ,  H04N1/40 D ,  G06T1/00 510 ,  G06T5/00 200A
Fターム (49件)：
2C056EA04 ,  2C056EA11 ,  2C056EC71 ,  2C056EC72 ,  2C056EC74 ,  2C056EC76 ,  2C056ED01 ,  2C056ED02 ,  2C056ED05 ,  2C056EE03 ,  2C056EE10 ,  2C056FA10 ,  2C057AF25 ,  2C057AF39 ,  2C057AF91 ,  2C057AM15 ,  2C057AM28 ,  2C057AM30 ,  2C057AN01 ,  2C057CA02 ,  2C057CA05 ,  5B057AA11 ,  5B057CA01 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB01 ,  5B057CB07 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC02 ,  5B057CE14 ,  5B057CE16 ,  5C077LL04 ,  5C077LL19 ,  5C077MP08 ,  5C077NN05 ,  5C077NN06 ,  5C077NN07 ,  5C077PP33 ,  5C077PP37 ,  5C077PP47 ,  5C077TT05 ,  5C079HB02 ,  5C079KA01 ,  5C079KA15 ,  5C079NA02 ,  5C079NA03 ,  5C079PA03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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