特許
J-GLOBAL ID：200903085903511479

水素ガス及び酸素ガスの減圧・加圧溶解方式のコロイド溶液による自動酸化・還元処理システム

発明者：
上村 親士

上村 親士 について


出願人/特許権者：
有限会社情報科学研究所

有限会社情報科学研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-158698
公開番号（公開出願番号）：特開2004-344859
出願日： 2003年04月28日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：
【目的】水素及び酸素の気液コロイドによる酸化還元処理技術を提供する。本技術はは処理時間が短く、強い酸化作用、還元作用が得られ、長時間安定的に作用するので、処理の片寄りやむらもないので、例えば鉄錆の除去が簡単である等の効果を有する。それで鉄鋼、造船、自動車、セラミック、セメント、食品、環境、医療、海洋等の広い分野で、酸化処理を必要とする分野では酸化コロイドを還元処理を必要とする分野では還元コロイドを最大毎分6トンもの大量の処理液を供給することを目的としている。【構成】1 減圧調整弁を有する減圧撹拌槽2 水流ポンプによる高速撹拌槽3 加圧調整弁を有する加圧撹拌槽4 ディジタル水流々量計5 酸素・水素ガスフロー流量計6 水流感知センサー7 シークエンサーまたはリレー8 ガス供給断続切り換え装置9 ガスボンベとガス圧調整系10 ガスろ過装置と供給系
請求項（抜粋）：
流動する液体へ水素ガスをフィルターでろ過後供給し、溶液の気体溶解度以上に、微細気泡として過剰に懸濁させ、気液混在のコロイド溶液として強力な還元力を創出する目的で、 減圧槽内においてガスノズルにより水素ガスを噴射させ、 減圧撹拌槽では槽内に設置した固定渦流発生撹拌子によって、回転する渦流に基づく減圧撹拌と高速回転ポンプ内における高速撹拌を組合せて、減圧下の撹拌でガス気泡の破砕を行い、水素ガスの微細気泡を形成し、 次に挿入した加圧撹拌槽では槽内に設置した固定渦流発生撹拌子によって、高速回転ポンプから送られてきた微細気泡を瞬間的に押し潰し、 加圧撹拌して気泡をさらに細かく圧縮微細化しながら均質化し、 溶液を気液混合の過飽和状態に導き溶解させ、気液共存のコロイドを形成し、 溶液の強力な還元作用を創出することを可能にする減圧撹拌、高速撹拌、加圧撹拌の三段階の撹拌溶解過程を有することを特徴とする溶液の還元処理技術。
IPC (4件)：
C02F1/68 ,  B01F1/00 ,  B01F3/04 ,  E02B3/00
FI (6件)：
C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530B ,  C02F1/68 540E ,  B01F1/00 A ,  B01F3/04 A ,  E02B3/00
Fターム (4件)：
4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AB21 ,  4G035AB27
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM