特許

J-GLOBAL ID：200903085913740239

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法

発明者： 小太刀 明子 ,  武智 敏
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-197475
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043848
出願日： 1995年08月02日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 特に短波長露光光源を用いて、大気成分の環境制御や時間管理等に煩わされることなく微細パターンを形成することができる、化学増幅型レジストに代わる新しいレジスト材料を提供し、併せてこの新しいレジスト材料を使ってレジストパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】 本発明のレジスト材料は、トリフルオロメチル置換基又はトリフルオロメチル基を末端に有する置換基と、脂環族又は芳香族炭化水素置換基とを有するアクリレート系の繰り返し単位を含む樹脂を含む。

請求項（抜粋）：

トリフルオロメチル置換基又はトリフルオロメチル基を末端に有する置換基と、脂環族又は芳香族炭化水素置換基とを有するアクリレート系の繰り返し単位を含む樹脂を含むレジスト材料。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 566 ,  H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (21件)

• 特開平2-045509
  
• 特開昭64-043512
  
• 特開昭62-150345
  
• 特開昭59-197036
  
• 特開平3-278059
  
• 特開昭56-139515
  
• 特開昭55-159436
  
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-097141   出願人：日本ゼオン株式会社
• 微細構造体の形成方法およびX線マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-066676   出願人：住友電気工業株式会社
• 特開平4-142542
  
• 特開昭62-229141
  
• 特開平1-154146
  
• 特開昭60-254041
  
• 特開昭56-069625
  
• 特開昭58-113933
  
• 特開昭58-106536
  
• 特開昭58-106535
  
• 特開平2-191957
  
• 特開平4-042229
  
• 特開平4-039665
  
• 感光性材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185046   出願人：株式会社東芝