特許
J-GLOBAL ID：200903086070486676

プラズマ処理装置

発明者：
坂本 薫

坂本 薫 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-180835
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012287
出願日： 1998年06月26日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【課題】 チャンバー外側にプラズマ発生用のアンテナを巻回したプラズマ処理装置のプラズマ発生を容易にし且つ基板に与えるダメージを少なくする。【解決手段】 チャンバー3の小径部3a外側には2本のアンテナ7a,7b,7cを螺旋状に巻回している。アンテナ7a,7b,7cは断面円形をなし、互いの間隔を維持するためにチャンバー3とアンテナ7a,7b,7cとの間には絶縁体からなるスペーサ8を介在せしめ、更にアンテナ7a,7b,7cの上端部は平面視で互いに120°位相をずらせ、その上端部を高周波電源との接続部(給電部)としている。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理用チャンバーと、このプラズマ処理用チャンバーの周囲に設けられるアンテナとからなるプラズマ処理装置において、前記アンテナは複数本設けられ、各アンテナは一端が高周波電源に接続され、更に各アンテナは互いに接触しないように位相をずらせてプラズマ処理用チャンバーの周囲に螺旋状に巻回されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (6件)：
H05H 1/46 A ,  H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
Fターム (26件)：
4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030FA04 ,  4K030KA05 ,  4K030KA30 ,  4K030KA34 ,  4K057DA02 ,  4K057DA16 ,  4K057DB20 ,  4K057DD01 ,  4K057DM28 ,  4K057DM33 ,  4K057DN01 ,  5F004AA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004BD06 ,  5F045AA08 ,  5F045DP03 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11 ,  5F045EH12 ,  5F045EH20
引用特許：
審査官引用 (5件)
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