特許
J-GLOBAL ID：200903086077829404
浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
木戸 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-160997
公開番号（公開出願番号）：特開2004-002942
出願日： 2002年06月03日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】変成炉内での温度上昇や温度低下及び煤の発生を抑制し、浸炭用雰囲気ガスとして好適な一酸化炭素を高濃度に含む変成ガスを安定して発生させることができる浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法を提供する。【解決手段】炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスを触媒層を有する変成炉14に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記変成炉で触媒反応した変成ガスの一部を変成炉入口側に循環させて触媒反応開始前又は触媒反応初期のガスに合流混合させる変成ガス循環経路18を設け、変成ガスの一部を変成炉入口側に循環させて触媒反応開始前又は触媒反応初期のガスに合流混合させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスを触媒層を有する変成炉に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記変成炉で触媒反応した変成ガスの一部を変成炉入口側に循環させて触媒反応開始前又は触媒反応初期のガスに合流混合させる変成ガス循環経路を設けたことを特徴とする浸炭用雰囲気ガス発生装置。
IPC (3件)：
C23C8/20
, C01B3/38
, C21D1/76
C23C8/20
, C01B3/38
, C21D1/76 J
4G140EA03
, 4G140EA05
, 4G140EA07
, 4G140EB43
, 4G146JA01
, 4G146JB02
, 4G146JB04
, 4G146JC02
, 4G146JC03
, 4G146JC17
, 4G146JC22
, 4G146JC33
, 4K028AA01
, 4K028AC08
