特許

J-GLOBAL ID：200903086131496440

研磨用組成物及び研磨方法

発明者： 上村 泰英
出願人/特許権者： 株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-227614
公開番号（公開出願番号）：特開2008-053415
出願日： 2006年08月24日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：

【課題】研磨用組成物を用いて研磨した後の研磨対象物表面における研磨加工に起因するLPD(light point defects)の数を低減することが可能な研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いた研磨方法を提供する。【解決手段】本発明の研磨用組成物は、ポリビニルピロリドン及びポリN-ビニルホルムアミドから選ばれる少なくとも一種類の水溶性高分子と、アルカリとを含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポリビニルピロリドン及びポリN-ビニルホルムアミドから選ばれる少なくとも一種類の水溶性高分子と、 アルカリと を含有することを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550C ,  C09K3/14 550Z

Fターム (4件)：

3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平02-158684号公報
  

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-272459
  
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-280592   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• CMP研磨剤用ポリマー及び組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-069992   出願人：株式会社日本触媒
• 特開昭63-272459