特許

J-GLOBAL ID：200903086276765300

基板洗浄装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治 ,  吉野 裕文
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-231311
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086218
出願日： 1993年09月17日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】 洗浄能力を向上させる。【構成】 基板洗浄装置3は、基板Wの表面を洗浄する装置であって、基板保持回転機構20とブラシ洗浄機構21とを備えている。基板保持回転機構20は、基板を保持しつつ回転させる。ブラシ洗浄機構21は、基板保持回転機構20によって保持された基板Wの表面に超音波で振動した洗浄液を吐出する超音波ノズル31と、超音波ノズル部31に隣接して配置されかつ基板Wの表面を擦り得るブラシ部30とを有している。

請求項（抜粋）：

基板の主面を洗浄する基板洗浄装置であって、前記基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段によって保持された基板の主面に洗浄液を吐出する洗浄液吐出部と、前記洗浄液に超音波振動を与える振動付与手段と、前記洗浄液吐出部に隣接して配置されかつ前記基板の主面を擦り得るブラシとを有する基板洗浄手段と、を備えた基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 11/04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フオトマスクの洗浄装置及びフオトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-300435   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開平3-052225
  
• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-229752   出願人：東京応化工業株式会社
• 特開平3-052225