感光体用アルミニウム基盤及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清水久義 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-092769
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286406
出願日： 1995年04月18日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】優れた表面平滑性を安定的に有する感光体用アルミニウム基盤及びその製造方法を提供する。【構成】冷間延伸加工を施された感光体用アルミニウム基盤であって、表面の結晶粒の加工方向における平均長さが300μmを超えるものに規定されている。また、製造方法は、表面の結晶粒の加工方向における平均長さが60μm以上である感光体用アルミニウム基盤の元材を、結晶粒の加工方向における平均長さが1.3倍以上となるように冷間延伸加工して、表面の結晶粒の加工方向における平均長さが300μmを超えるものとなす。

請求項（抜粋）：

冷間延伸加工を施された感光体用アルミニウム基盤であって、表面の結晶粒の加工方向における平均長さが300μmを超えるものに規定されていることを特徴とする感光体用アルミニウム基盤。

IPC (3件)：

G03G 5/10 , B21B 3/00 , B21C 1/00

FI (3件)：

G03G 5/10 B , B21B 3/00 J , B21C 1/00 L

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭60-221545
平版印刷版用支持体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-237148 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開昭61-159544

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