特許
J-GLOBAL ID:200903086299591791

汚染水中のヒ素除去法およびそれに用いる処理剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-044189
公開番号(公開出願番号):特開2008-207071
出願日: 2007年02月23日
公開日(公表日): 2008年09月11日
要約:
【課題】アルカリ性であるヒ素含有水中のヒ素を効率よく除去し得る方法を提供すること。【解決手段】ヒ素含有水中のヒ素を除去するための方法であって、鉄粉と酸性溶液とを接触させることにより得られた酸処理鉄粉に、水中のヒ素を吸着させて除去することを特徴とする方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ヒ素含有水中のヒ素を除去するための方法であって、鉄粉と酸性溶液とを接触させることにより得られた酸処理鉄粉に、水中のヒ素を吸着させて除去することを特徴とする方法。
IPC (2件):
C02F 1/28 ,  B01J 20/06
FI (3件):
C02F1/28 B ,  C02F1/28 E ,  B01J20/06 A
Fターム (31件):
4D024AA02 ,  4D024AA04 ,  4D024AA05 ,  4D024AB17 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BC04 ,  4D024DB12 ,  4D624AA02 ,  4D624AA04 ,  4D624AA05 ,  4D624AB17 ,  4D624BA14 ,  4D624BB01 ,  4D624BC04 ,  4D624DB12 ,  4G066AA02A ,  4G066AA27B ,  4G066AA34D ,  4G066AA47D ,  4G066AA50D ,  4G066AA53D ,  4G066AB07D ,  4G066AE01D ,  4G066BA09 ,  4G066CA46 ,  4G066DA07 ,  4G066DA08 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21 ,  4G066FA36
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
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