特許
J-GLOBAL ID:200903086377478948
微細成形炭化ケイ素ナノインプリントスタンプ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 西山 清春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-364007
公開番号(公開出願番号):特開2004-160647
出願日: 2003年10月24日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】 磨耗に強い微細成形炭化ケイ素ナノインプリントスタンプを提供すること。【解決手段】 微細成形炭化ケイ素ナノインプリントスタンプ10、および該スタンプの作成方法を開示する。マイクロキャスティング法を用いて、基礎層11と、該基礎層11に接続された複数の極小形状部12を形成する。基礎層11と極小形状部12は、完全に一体であり、全体がシリコン単体(Si)よりも硬い炭化ケイ素(SiC)から作成される。その結果、この微細成形炭化ケイ素ナノインプリントスタンプ10は、複数回の転写処理にわたって磨耗や破損に耐えることができるため、耐用寿命が長くなっている。耐用寿命が長くなった結果、耐用寿命を超えて製造コストを回収することが可能になるため、この微細成形炭化ケイ素ナノインプリントスタンプ10は経済性が高くなっている。【選択図】 図9
請求項(抜粋):
ハンドリング基板(15)と、
前記ハンドリング基板(15)に接続された接着層(17)と、
前記接着層(17)に接続され、基準面(13)を有する、基礎層(11)と、
前記基礎層(11)に接続され、前記基準面(13)から外側へ延びる複数の極小形状部(12)と、
からなり、前記極小形状部(12)が転写形状を画定する外面を有し、前記基礎層(11)及び前記極小形状部(12)が完全一体に微細成形され、炭化ケイ素を含む材料から作成される、微細成形炭化ケイ素ナノインプリントスタンプ(10)であって、
前記炭化ケイ素の硬さは、前記ナノインプリントスタンプ(10)が転写先の媒体(50)と繰り返し接触する間に前記極小形状部(12)の転写形状を維持する作用を持つ、微細成形炭化ケイ素ナノインプリントスタンプ(10)。
IPC (5件):
B82B3/00
, B81B1/00
, B81C1/00
, C04B35/565
, H01L21/027
FI (5件):
B82B3/00
, B81B1/00
, B81C1/00
, C04B35/56 101Y
, H01L21/30 502D
Fターム (12件):
4G001BA22
, 4G001BA67
, 4G001BB22
, 4G001BB67
, 4G001BC77
, 4G001BD12
, 4G001BD13
, 4G001BD36
, 4G001BE11
, 4G001BE31
, 5F046AA28
, 5F046DA30
引用特許:
前のページに戻る