パーティクルモニター装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-130985
公開番号（公開出願番号）：特開平10-232196
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】パーティクルの発生点と到達点と質量とを容易に推定できパーティクルの大きさを推定するため距離による散乱光強度の変化分を補正でき単純な数値計算で対応できるレーリーの散乱式を適用できる領域を拡大できパーティクルの形状を推定し大きさを精密に推定できるパーティクルモニター装置を提供する。【解決手段】散乱光を計測する受光器14からの信号強度が所定の値を越すと、受光器の散乱光取り込み時間を長くし又はレーザ光13のパルス繰り返し周波数を大きくし又はレーザ光のパルス幅を長くし、パーテイクル20の動きを散乱光の軌跡として表示する手段と、軌跡の始点と終点を結ぶ直線を軌跡に重ねて表示し直線を始点を越えて延長してパーティクルの発生点を推定し、直線を終点を越えて延長してパーティクルの到達点を推定し、直線を鉛直方向に射影した長さを散乱光取り込み時間で除してパーティクルの質量を推定する手段とを有する。

請求項（抜粋）：

プロセス装置にレーザ光を導入する手段とパーティクルからの散乱光を計測する手段とを有するパーティクルモニター装置において、前記散乱光を計測する受光器からの信号強度が所定の値を越すと、前記受光器の前記散乱光取り込み時間を長くする、又は、前記レーザ光のパルス繰り返し周波数を大きくする、又は、前記レーザ光のパルス幅を長くすることにより、前記パーテイクルの動きを前記散乱光の軌跡として表示する手段と、前記軌跡の始点と終点を結ぶ直線を前記軌跡に重ねて表示し、前記直線を前記始点を越えて延長して前記パーティクルの発生点を推定し、前記直線を前記終点を越えて延長して前記パーティクルの到達点を推定し、前記直線を鉛直方向に射影した長さを前記散乱光取り込み時間で除して前記パーティクルの質量を推定する手段とを、有することを特徴とするパーティクルモニター装置。

IPC (4件)：

G01N 15/14 , G01N 15/06 , G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (6件)：

G01N 15/14 P , G01N 15/06 D , G01N 21/88 E , H01L 21/66 J , H01L 21/66 Z , H01L 21/66 L

引用特許：

審査官引用 (4件)

微粒子計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-161315 出願人：興和株式会社
パーテイクルカウンタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-326458 出願人：日本電気株式会社
特開平2-066425

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